一些硬件行業(yè)用戶將相對了解碳化硅噴嘴的特點(diǎn)，都知道碳化硼研磨效率很高，所以一般在材料研磨過程中作為研磨介質(zhì)，特別是用于寶石、陶瓷、工具、軸承、硬合金等硬材料研磨、研磨、鉆孔、拋光等。

    噴嘴布置的間距應(yīng)合理。噴嘴噴出的錐形水霧應(yīng)相互連接，無間隙。否則，煙氣可能會從間隙中溜走，而無法接觸液滴。調(diào)整噴嘴布置密度和噴涂層數(shù)，可獲得不同的噴涂重疊度。重疊度越高，脫硫效率越高，但阻力也會增加。一般噴霧重疊度為200%-300%。同時(shí)，噴嘴布置的另一個(gè)要求是不沖刷塔壁、噴霧母管和支撐件.


    噴嘴角是指漿液離開噴嘴后形成的液膜錐角，主要受噴嘴孔半徑、旋轉(zhuǎn)室半徑、漿液入口半徑等因素的影響。在選擇噴嘴角時(shí)，必須與塔內(nèi)的噴嘴布置相結(jié)合，以確保塔內(nèi)覆蓋的均勻性和覆蓋率，通常需要90個(gè)噴嘴角～120。


    噴嘴壓降是指漿液通過噴嘴通道造成的壓力損失，主要與噴嘴結(jié)構(gòu)參數(shù)和漿液粘度有關(guān)。壓降越大，系統(tǒng)能耗越大。噴嘴壓降的典型值在0.05-0.15MPa之間。


    噴嘴流量是指單位時(shí)間內(nèi)通過噴嘴的體積流量。噴嘴流量與噴嘴壓力降低、噴嘴結(jié)構(gòu)參數(shù)等因素有關(guān)。在相同的噴嘴壓力降低條件下，噴嘴孔半徑越大，噴嘴流量越大。